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UP-512 碟形腔式MPCVD设备
微信截图_20210610095154
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UP-512 碟形腔式MPCVD设备
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UP-512系列蝶形腔式MPCVD设备设计先进,性能可靠。硬件配置稳定可靠,软件系统集成度高,易于操作。沉积面积最高可达4英寸,生产效率高,适合于生长大面积金刚石薄膜,也可用于单晶多晶金刚石的大批量生产。
产品描述

技术指标与特性

 

1.大功率微波系统
微波频率 2450±25MHz
输出功率 0.6kw~12kw 连续可调
微波泄漏 离设备 5cm 处,微波泄漏≤ 2 mw/cm2
2.真空系统
工作气压范围 10~300Torr
自动稳压范围 40~250Torr
真空泵 4.4L/s 旋片式真空泵
系统漏率 <1x10-9 Pa*m3 /s (通过氦质谱检漏仪检测)
腔体保压能力 每 24 小时压升小于 0.5 Torr
本底极限真空 1Pa
3.真空反应腔及基片台
反应腔材料及结构 碟形不锈钢反应腔
观察窗口 四个 CF 端口, 90°分布。
测温窗口 四个 CF 端口, 90°分布。
自动控制上盖开关
钼基片台直径 最大150mm,建议直径范围 60mm ~75mm
样品台可上下移动
4.气路
系统自带四路 MFC
选用日本进口流量计及流量控制阀
5.测温系统
选用德国品牌红外测温,范围:300~1300 摄氏度
6.软件
配置 PLC 控制的 15“触摸显示屏,用户操作界面友好,所有操作均可在触摸屏上完成
自带缺水,缺气,电源缺相,火球跳变,过温过载,打火等自动保护
生产流程通过工艺配方自动控制,可设置多达十套工艺配方
系统自带全自动抽气,点火,升温,降温等预设流程,用户操作简便
全自动温度控制,气压控制,极大减轻系统操作员的工作量

 

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