任何一个行业的产生和发展都离不开科学技术的进步，这也是市场需求量不断扩大产生的对行业的促进，促使相关人员对产品的不断更新换代，那么在加工行业，这种要求更加的多，比如MPCVD设备就在金刚石的领域里发挥着它的作用，那么是什么优点让企业在选择的时候会优先考虑MPCVD设备呢？

在矿石行业中，金刚石也被誉为半导体，这是因为它有着宽带隙和高击穿电场以及高载流子迁移率和高热导率的特点，被广泛的使用了起来。但是，在企业的使用过程中，大量需要的是大尺寸和高品质单晶金刚石，这就让金刚石的使用又有了局限性，成为了制约其应用的主要瓶颈。所以，在不断的尝试与努力中，MPCVD设备由于它的微波能量没有污染，气体原料相对纯净，并且没有催化剂和杂质的掺入等一些压倒性的优势，成为众多制备方法中很有发展前景的技术之一。那么MPCVD设备主要的方法是微波等离子体CVD法。这种方法是用电磁波能量来激发反应气体。这是因为它主要是无极放电，所以等离子体纯净，同时它的微波放电区集中而不扩展，所以就能激活产生各种原子基团如原子氢等，产生的离子的大动能低，所以不会腐蚀已生成的金刚石，这是对金刚石的保护作用。

那么对于微波等离子体化学气相沉积MPCVD设备，它的优点就是让企业选择它的关键，由于MPCVD设备的微波功率调节连续平缓，使得沉积温度可以连续稳定变化，这就让设备克服了直流电弧法中因电弧的点火及熄灭，而且对衬底和金刚石膜的巨大热冲击造成在DC plasma-jet CVD中金刚石膜很容易从基片上脱落的缺点，使得金刚石膜不容易脱落，这就是与直流等离子体炬相比，MPCVD设备明显就会占了优势。而与热丝法HFCVD相比，MPCVD设备就避免了热丝法中因为热金属丝蒸发而对金刚石膜的产生污染，以及热金属丝对强腐蚀性气体，比如一些高浓度氧和卤素气体等十分敏感的缺点，使得在工艺中能够使用的反应气体的种类比HFCVD中多许多，就会造成一些不必要的损失。而当MPCVD设备与氧-乙炔燃烧火焰法相比较，通过对MPCVD沉积反应室结构的结构调整，可以在沉积腔中产生大面积而又稳定的等离子体球，如此操做就会有利于企业大面积、均匀地沉积金刚石膜，这就比火焰法更加的适合，因而MPCVD设备的微波等离子体法制备金刚石膜的优越性在所有制备法中显得十分的突出。