Shenzhen Upla Plasma Technology Co., Ltd.
导航
EN
首页
>
发展历程
>
2019
新闻中心

2019

  • 作者：
  • 来源：
  • 发布时间：2021-05-12 16:03
  • 访问量：

【概要描述】推出6kW圆柱腔MPCVD设备（UP-206），实现2英寸金刚石稳定生长

2018.11

2018.11

2019

【概要描述】推出6kW圆柱腔MPCVD设备（UP-206），实现2英寸金刚石稳定生长

  • 分类：发展历程
  • 作者：
  • 来源：
  • 发布时间：2021-05-12 16:03
  • 访问量：0
详情
推出6kW圆柱腔MPCVD设备（UP-206），实现2英寸金刚石稳定生长
 

扫二维码用手机看

上一个: 2020
下一个: 2016
上一个: 2020
下一个: 2016
搜索
img

Copyright © 2021 深圳优普莱等离子体技术有限公司  粤ICP备17047011号   网站建设：中企动力 东莞