金刚石由于其优异的综合性能，在各种前沿科技领域中都有着重要甚至是必不可少的关键应用。由于我国的相关技术研究起步较晚，加上美欧发达国家对我国的高新技术封锁政策，国内MPCVD法制备金刚石的关键设备和工艺技术与国外先进、相对成熟的技术相比还存在着一定的差距。自主开发出用于制备大尺寸、高质量金刚石的设备及先进工艺技术，对我国的科技发展有着重大的战略意义。

　　目前MPCVD金刚石沉积设备制备金刚石技术发展面临的主要问题包括：高质量自支撑多晶金刚石膜的生长速率低，成膜均匀性有待提高；大尺寸、高质量单晶金刚石生产的可靠性、成品率还需要改善提高。

　　改善、解决问题的关键在于：开发具有优良性能的微波等离子体源；尽量高的等离子体功率密度；等离子体的均匀性好；石英微波窗有足够好的冷却，对等离子体的污染尽量少；单位能耗金刚石的产率高；设备制造成本低，运行稳定可靠，运行折旧成本低。这几点也是将来MPCVD金刚石沉积设备装置的主要研究方向和发展趋势。

　　随着MPCVD金刚石沉积设备的不断完善和工艺技术的优化，未来制备大尺寸、高质量的单晶金刚石将越来越容易。金刚石制品将迎来爆发式增长，有望引发新一轮的材料革命，对未来的科学技术发展产生巨大的影响。