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UP-510 碟形腔式MPCVD设备
UP510
UP510
UP-510 碟形腔式MPCVD设备
Numbering
UP-510系列碟形腔式MPCVD设备设计先进,性能可靠。硬件配置稳定可靠,软件系统集成度高,易于操作,沉积面积最高可达3英寸,可用于单晶或多晶金刚石的大批量生产。
产品描述

关键词:
MPCVD设备
微波等离子体
金刚石涂层
培育钻石
金刚石设备
金刚石薄膜
金刚石沉积设备
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