UP-206金属圆柱腔式MPCVD设备
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UP-206系列金属圆柱腔式MPCVD设备设计先进，性能可靠。硬件配置采用业内知名高可靠性品牌，保障设备长时间稳定运行。软件系统采用高度集成的PLC控制，所有操作均可在触摸屏上一键完成。工艺配方功能强大，可支持多达10套不同工艺自动生长。内置恒温功能，开启后设备全自动监控调节，省时省力。非常适于沉积单晶金刚石片，人工钻石毛胚等，已实现给各企业及研究院所大批量出货。
产品描述
技术指标与特性
| 1.微波系统(采用进口微波源) | |
| 微波频率 | 2450±25MHz |
| 输出功率 | 0.6kw~6kw 连续可调 |
| 微波泄漏 | 离设备 5cm 处，微波泄漏≤ 2 mw/cm2 |
| 2.真空系统 | |
| 工作气压范围 | 10~250Torr |
| 自动稳压范围 | 40~250Torr |
| 真空泵 | 采用 4.4L/s 旋片式真空泵 |
| 系统漏率 | <1.0×10-9 Pa*m3 /秒 (通过氦质谱检漏仪检测) |
| 腔体保压能力 | 每 24 小时压升小于 0.2 Torr |
| 本底极限真空 | 0.1Pa(7.5×10-4 Torr) |
| 3.真空反应腔及基片台 | |
| 反应腔材料及结构 | 双层水冷不锈钢反应腔 |
| 电动升降式水冷基片台，直径 100mm | |
| 钼基片台直径≥50mm | |
| 4.气路 | |
| 系统自带四路 MFC，可扩展至六路 | |
| 选用日本富士金进口流量计及流量控制阀 | |
| 5.测温系统 | |
| 选用德国品牌红外测温仪，范围：300~1300 摄氏度 | |
| 6.软件 | |
| 配置 PLC 控制的 15“触摸显示屏，用户操作界面友好，所有操作均可在触摸屏上完成 | |
| 自带缺水，缺气，电源缺相，火球跳变，过温过载，打火等自动保护 | |
| 生产流程通过工艺配方自动控制,可设置多达十套工艺配方 | |
| 系统自带全自动抽气，点火，升温，降温等预设流程，用户操作简便 | |
| 全自动温度控制，气压控制，极大减轻系统操作员的工作量 | |
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