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UP-206金属圆柱腔式MPCVD设备
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UP-206金属圆柱腔式MPCVD设备
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UP-206系列金属圆柱腔式MPCVD设备设计先进,性能可靠。硬件配置采用业内知名高可靠性品牌,保障设备长时间稳定运行。软件系统采用高度集成的PLC控制,所有操作均可在触摸屏上一键完成。工艺配方功能强大,可支持多达10套不同工艺自动生长。内置恒温功能,开启后设备全自动监控调节,省时省力。非常适于沉积单晶金刚石片,人工钻石毛胚等,已实现给各企业及研究院所大批量出货。
产品描述

技术指标与特性

 

1.微波系统(采用进口微波源)
微波频率 2450±25MHz
输出功率 0.6kw~6kw 连续可调
微波泄漏 离设备 5cm 处,微波泄漏≤ 2 mw/cm2
2.真空系统
工作气压范围 10~250Torr
自动稳压范围 40~250Torr
真空泵 采用 4.4L/s 旋片式真空泵
系统漏率 <1.0×10-9 Pa*m3 /秒 (通过氦质谱检漏仪检测)
腔体保压能力 每 24 小时压升小于 0.2 Torr
本底极限真空 0.1Pa(7.5×10-4 Torr)
3.真空反应腔及基片台
反应腔材料及结构 双层水冷不锈钢反应腔
电动升降式水冷基片台,直径 100mm
钼基片台直径≥50mm
4.气路
系统自带四路 MFC,可扩展至六路
选用日本富士金进口流量计及流量控制阀
5.测温系统
选用德国品牌红外测温仪,范围:300~1300 摄氏度
6.软件
配置 PLC 控制的 15“触摸显示屏,用户操作界面友好,所有操作均可在触摸屏上完成
自带缺水,缺气,电源缺相,火球跳变,过温过载,打火等自动保护
生产流程通过工艺配方自动控制,可设置多达十套工艺配方
系统自带全自动抽气,点火,升温,降温等预设流程,用户操作简便
全自动温度控制,气压控制,极大减轻系统操作员的工作量

 

关键词:
UP-206
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