2022年11月15-17日，深圳优普莱等离子体技术有限公司亮相第六届国际碳材料大会暨产业展览会，非常感谢大家莅临展位参观交流，圆满结束！

让我们来了解一下刻蚀工艺。在半导体制造等领域，精确地控制材料的形状和尺寸至关重要。微波等离子体刻蚀就是一种高效的方法。当微波能量注入到反应室中时，会激发气体分子形成等离子体。这些等离子体中的活性离子具有很高的能量，能够与被刻蚀材料的表面发生化学反应。例如，在硅晶圆的刻蚀过程中，通常会使用含氟的气体形成等离子体。氟离子会与硅发生反应，生成挥发性的化合物，从而实现对硅材料的刻蚀。

金刚石沉积的精密工艺过程中，准确地实时监测关键参数对于确保高质量的金刚石生成至关重要。而温度、压力和气体浓度等参数的精准把控离不开各类高性能传感器的协同工作。