关于我们
企业概述
企业文化
发展历程
资质荣誉
产品中心
金刚石沉积设备
薄膜沉积设备
等离子体清洗设备
应用场景
钻石培育
热沉应用
光学应用
量子应用
化学应用
刀具应用
新闻中心
公司新闻
行业知识
产品知识
联系我们
English
EN
首页
>
产品中心
>
MPCVD(石英腔)
>
UP-PL01 石英腔式MPCVD设备
产品中心
MPCVD(圆柱腔)
MPCVD(碟形腔)
MPCVD(石英腔)
大功率MPCVD设备
UP-PL01 石英腔式MPCVD设备
Numbering
:
UP-PL01系列石英腔式MPCVD设备设计先进,性能可靠。硬件配置稳定可靠,软件系统集成度高,易于操作,有效沉积面积可达70-80mm,可用于单晶或多晶金刚石的大批量生产。
返回列表
客服热线
产品描述
关键词:
金刚石沉积设备
MPCVD
金刚石涂层
人工合成钻石
培育钻石
未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加
上一个
无
下一个
无
相关产品
UP-206 圆柱腔式MPCVD设备
UP-510 碟形腔式MPCVD设备
UP-PL01 石英腔式MPCVD设备
UP-915 大功率MPCVD设备
搜索
关于我们
企业概述
发展历程
荣誉资质
产品中心
MPCVD(圆柱腔)
MPCVD(碟形腔)
MPCVD(石英腔)
大功率MPCVD设备
应用场景
钻石培育
热沉应用
光学应用
量子应用
化学应用
刀具应用
新闻中心
公司新闻
行业知识
Follow us
扫一扫关注
官网公众号
Copyright © 2021 深圳优普莱等离子体技术有限公司
粤ICP备17047011号
网站建设:中企动力
东莞