椭球谐振腔式金刚石沉积设备出现在1997年前后，由德国Fraunhofer研究所设计研发。椭球谐振腔式金刚石沉积设备的结构与石英钟罩式金刚石沉积设备十分相似，两者都有一个大的石英钟罩并且均采用同轴天线式转换器作为微波模式转换手段，两者的明显不同之处主要在于谐振腔的不同。
MPCVD沉积技术的特点表现于其等离子体的能量是由微波能量来维持的，因而在放电过程中可以不使用金属电极，可避免其他CVD沉积方法中因使用电极而造成对金刚石的污染；此外，MPCVD法的气体放电区域十分集中，不仅激励产生高密度的等离子体，激发更多的活性基团，而且其放电过程极为稳定，如上优点均有助于高质量金刚石长时间稳定的生长。正如此，MPCVD一直是业界生长高质量单晶和光学级多晶金刚石的优选方法。
金刚石沉积设备生长的金刚石表征
沉积设备生长出来的金刚石样品需要先做拉曼光谱，这是非常主要也是非常关键的一种表征方法，简单判断外延单晶样品是否为金刚石以及是否含有 SP2杂化形态的碳。如果通过拉曼光谱确定为金刚石单晶，可以进行金刚石晶体质量的进一步表征，用X射线摇摆曲线去表征金刚石单晶的晶体质量，光致发光谱、红外吸收光谱、紫外吸收光谱可以用来表征单晶金刚石的光学性质的好坏，也可以简单判定晶体内所
MPCVD设备生长金刚石的过程中，除除功率、气压、温度、漏气率、气源种类和比例等工艺参数外、籽晶自身的品质也是重要的工艺参数。目前通常用作金刚石生长的籽晶的晶面取向主要有（100）、（110）、（111）和（113）四种。在以上四个晶面中，由于（100）晶面在生长过程中产生缺陷和孪晶的概率比较小，适合生长高质量、大尺寸的单晶厚膜，且该晶面的籽晶较于其他晶面更容易抛光处理且容易得到低缺陷的衬底，目
金刚石在MPCVD设备中的生长需要保证MPCVD设备的真空性。将设备反应腔清洗，在基片台上放置已经预处理好的籽晶，关闭设备反应腔舱门，进行抽真空操作，待反应腔达到一定的真空度的时候，结束抽真空操作并通入反应气体，反应气体在微波场的激励下形成等离子体状态，反应气体成为各种活化基团，碳元素在籽晶上沉积，生长为金刚石。
MPCVD设备生长金刚石概括的来讲，其过程是一个典型的准平衡过程。等离子体的能量是由微波维持的。微波源发出的的微波在矩形波导内以横电波（TE）模式传播，通过模式转化天线把TE模式转化为横磁波（TM）模式，然后耦合进入反应腔。当频率和模式合适的时候就会在反应腔内部形成驻波，也就是在反应腔内部形成一个强电场区域（基片台表面上方），这个强电场区域非常集中，不仅能产生高密度的等离子体，而且其放电过程非常稳
MPCVD设备沉积金刚石原理是微波发生器产生微波，通过波导管进入真空腔，将甲烷及氢气等反应气体等离子体化，进而在衬底上沉积为金刚石。反应气体在微波的激励下形成等离子体状态，这是由于微波是高频电磁场，电子在电磁场的作用下与其他的基团放生碰撞，从而大大促进了气体的等离子体化并且产生高密度等离子体。等离子体主要有两个作用，一是可以提高衬底的温度，使金刚石衬底达到适合外延生长的温度，二是提供参与反应的活性
任何一个行业的产生和发展都离不开科学技术的进步，这也是市场需求量不断扩大产生的对行业的促进，促使相关人员对产品的不断更新换代，那么在加工行业，这种要求更加的多，比如MPCVD设备就在金刚石的领域里发挥着它的作用，那么是什么优点让企业在选择的时候会优先考虑MPCVD设备呢？
