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UP-510系列碟形腔式MPCVD设备设计先进,性能可靠。硬件配置稳定可靠,软件系统集成度高,易于操作,沉积面积最高可达3英寸,可用于单晶或多晶金刚石的大批量生产。
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UP-PL01系列石英腔式MPCVD设备设计先进,性能可靠。硬件配置稳定可靠,软件系统集成度高,易于操作,有效沉积面积可达70-80mm,可用于单晶或多晶金刚石的大批量生产。
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UP-510系列碟形腔式MPCVD设备设计先进,性能可靠。硬件配置稳定可靠,软件系统集成度高,易于操作,沉积面积最高可达3英寸,可用于单晶或多晶金刚石的大批量生产。
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UP-PL01系列石英腔式MPCVD设备设计先进,性能可靠。硬件配置稳定可靠,软件系统集成度高,易于操作,有效沉积面积可达70-80mm,可用于单晶或多晶金刚石的大批量生产。
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